Category Archives: 新闻 (simplified Chinese)

LEDinside与德国ALLOS的CEO就microLED的未来前景展开交流

LEDinside黄女士就即将到来的microLED市场采访了德国半导体技术公司ALLOS的首席执行官Burkhard Slischka先生。 在ALLOS看来,硅基氮化镓技术是实现成本控制和增加产量的关键推动因素。 为了证实这个观点,本次采访主要就外延片的均匀性、CMOS生产线的使用和300mm硅基氮化镓外延片的可行性以及LED氮化镓外延片分别以蓝宝石为衬底和硅为衬底时的性能比较这几个观点展开讨论。 您也可以点击这里阅读完整的访问。 LEDinside及其台湾市场新闻媒体Trendforce是LED产业与技术新闻最顶尖的汇集地。我们非常高兴能与他们的读者分享ALLOS就LED 产业未来的看法。这也显示了ALLOS对中国市场的信心和承诺。此外,请不惜赐教,如有疑问我们也很乐意回答您们提出的任何问题。 The English version of the interview you can find here.

Continue Reading →

IEMN 结果显示 ALLOS 新型硅基氮化镓外延片产品具有超过 1400 V 的击穿电压

法国阿斯克新城和德国德累斯顿 – 2018 年 2 月 1 日 – 来自电子、微电子及纳米技术研究院 (IEMN) 的最新结果显示,ALLOS 即将推出的适用于 1200 V 器件的硅基氮化镓外延片产品具有超过 1400 V 的纵向和横向击穿电压。  法国 IEMN 研究所的 Farid Medjdoub 博士领导的一支团队制造出了器件,并在由德国 ALLOS Semiconductors 公司提供的两款不同的硅基氮化镓外延片产品上进行了测量。其中之一是 ALLOS 即将推出的专为 1200 V 器件应用设计的产品的原型。IEMN 借助该外延片实现了超过 1400 V 的纵向和 1600 V 的横向(接地)击穿电压。另一款外延片是 ALLOS 针对 600 V 应用推出的成熟产品,同样显示出非常高的 1200 V 击穿电压以及更高的横向和纵向测量值。 适用于 1200 V 器件应用的新型外延片产品来自 ALLOS 正在进行的一项内部开发计划。该产品的强劲性能归功于一个创新的结构,该结构结合了 ALLOS

Continue Reading →

维易科(VEECO)和ALLOS展示行业领先的200MM硅基氮化镓性能,推动micro-LED的应用

纽约普莱恩维尤(Plainview),2017年11月1日– Veeco 公司 (Nasdaq: VECO)今日宣布和ALLOS Semiconductors (ALLOS)达成了一项战略举措,展示了200mm硅基氮化镓晶圆用于蓝/绿光micro-LED的生产。维易科和ALLOS合作将其专有外延技术转移到Propel® 单晶圆MOCVD系统,从而在现有的硅生产线上实现生产micro-LED。

Continue Reading →